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        CVD缺陷生長二維層
        
            
        簡要描述：Newly acquired ion implantation accelerator unit allows 2Dsemiconductors USA to create desired amounts of defects by alpha particle irradiation process at select amount of doses. 
        
            
          

        • 更新時間：2024-06-03
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        • 產品型號： 
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        • 廠商性質：生產廠家
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        • 訪  問  量：1067
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        詳細介紹
        
            
        
            	
        Newly acquired ion implantation accelerator unit allows 2Dsemiconductors USA to create desired amounts of defects by alpha particle irradiation process at select amount of doses. Please contact us for details and pricing.

          
            
        
            
            
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                請輸入計算結果（填寫阿拉伯數字），如：三加四=7
            
          
		
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        泰州巨納新能源有限公司
        
                
          
                	
        • 聯系人：陳谷一
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        • 地址：江蘇省泰州市鳳凰西路168號
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        • 郵箱：taizhou@sunano.com.cn
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        • 電話：021-56830191
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